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Tirocinante universitario - Sviluppo di processi e hardware in camere PVD per nuovi film: AlN come materiale di interfaccia termica (TIM), SiN come guida d’onda fotonica. at Applied Materials

Reparto: Interns

Linguaggio
Modalità
In sede
Posizione
Sgurgola, Lazio, Italia
Tipo di contratto
A tempo pieno, Tirocinio
Livello
intern
Inserito

Descrizione

Applied Materials assume a tempo pieno un tirocinante o uno studente a Singapore per supportare lo sviluppo di prodotti complessi di deposizione fisica da fase vapore. Il ruolo prevede l’ottimizzazione dei processi PVD, la misurazione delle proprietà dei film metallici, l’organizzazione di dati e rapporti, la caratterizzazione di sistemi hardware di difficoltà moderata, la risoluzione di problemi di ingegneria di processo moderatamente complessi, l’esecuzione di analisi delle cause radice e il contributo ai cicli innovativi di sviluppo di prodotti per semiconduttori.

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